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掩模保護(hù)膜/膜是極紫外光刻工藝中的關(guān)鍵部件，是指在掩模上鋪一層膜，然后用機(jī)器在其上繪制出要壓印在晶圓上的電路，以保護(hù)掩模免受空氣中的灰塵或揮發(fā)性氣體污染，減少掩模的損壞目前這一領(lǐng)域仍由荷蘭的ASML和日本的三井化學(xué)主導(dǎo)，而韓國的桑普，S Tech等后來者也是主要供應(yīng)商之一
韓國媒體ETNews報(bào)道稱，三星電子自主研發(fā)了一種透光率高達(dá)88%的EUV膜，有助于實(shí)現(xiàn)供應(yīng)鏈的多樣化和穩(wěn)定性已經(jīng)證實(shí)可以大規(guī)模生產(chǎn)這種具有88%透射率的EUV膜產(chǎn)品
本站了解到，三星電子在去年的2021鑄造論壇上宣布了自己對EUV電影的研究當(dāng)時(shí)還公開宣布他們研發(fā)出了82%透射比的薄膜技術(shù)，并宣布將在2022年擁有88%透射比的量產(chǎn)系統(tǒng)
值得一提的是韓國公司Samp2021年，S Tech成功研制出透光率為90%的半導(dǎo)體EUV薄膜，成為除ASML外又一家成功研制出透光率超過90%的EUV薄膜的公司據(jù)說三星對它的要求是把比例提高到94%
業(yè)界預(yù)測，EUV薄膜需求將比去年增長近一倍，韓國國內(nèi)EUV薄膜最快將在1—2年內(nèi)實(shí)現(xiàn)商業(yè)化此外，TSMC也在加速開發(fā)自己的產(chǎn)品，以確保EUV電影的可控性
ASML曝光過程圖
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