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據etnews報道，三星電子和SK海力士向光刻機巨頭ASML訂購了下一代半導體設備高NA極紫外曝光設備繼TSMC和英特爾之后，韓國半導體制造商也準備推出能夠實現2納米工藝的器件對最先進技術的競爭預計會加劇
在10月19日的財報公告中，ASML表示:在EUV高NA業務中，ASML獲得了TWINSCAN EXE的額外訂單:5200，目前，所有EUV客戶都提交了高NA訂單高NA EUV設備是一種將聚光透鏡的數值孔徑從0.33提高到0.55的設備與現有的EUV設備相比，它可以處理更精細的半導體電路大多數業內人士認為，高NA設備對2nm工藝至關重要
NA稱為數值孔徑，是光學透鏡的一個重要指標一般情況下，光刻機設備會明確標出這個指標的值當光源波長一定時，NA的大小直接決定了光刻機的實際分辨率，也決定了光刻機能達到的最高工藝節點
今年9月，ASML表示，它正準備向客戶交付第一臺高NA EUV光刻機，將于明年某個時候完成。
英特爾和TSMC已經正式宣布從高鈉引進EUV設備當英特爾去年宣布其整合半導體公司的戰略，目標是重新進入OEM市場時，它宣布這些公司是第一個訂購高NA EUV設備的公司這是為了通過首先引進下一代設備來趕上TSMC和三星電子的系統半導體生產能力TSMC也宣布了訂購高NA EUV設備的合同，但三星電子和SK海力士沒有提及任何有關合同的內容伴隨著ASML的宣布，韓國半導體制造商引入高NA設備已得到官方確認可是，三星電子和SK海力士表示，關于引進高NA EUV設備，這是不能正式透露的事情ASML現有的EUV設備客戶包括三星電子，SK海力士，英特爾，TSMC，美光等
由于全球所有半導體制造公司都已訂購ASML高NA EUV設備，預計2025年開始量產時將展開激烈競爭高NA EUV設備比目前使用的EUV設備更昂貴，但它可以一次實現超細加工，可以大大提高生產率就三星電子而言，需要保證高NA EUV設備在3nm量產后用于2nm量產現有的EUV裝備預計耗資2000億韓元至3000億韓元，而高NA EUV裝備預計耗資5000億韓元
本站了解到，ASML此前公布第三季度凈銷售額為58億歐元，毛利率為51.8%，凈利潤為17億歐元第四季度凈銷售額預計在61億歐元至66億歐元之間
ASML總裁兼首席執行官Peter Wennink表示:第三季度凈銷售額為58億歐元，毛利率為51.8%，高于預期受通脹，消費者信心和經濟衰退風險等全球宏觀經濟因素的影響，市場存在不確定性盡管每個細分市場的需求動態有所不同，但我們的總體客戶需求仍然強勁這推動第三季度新訂單額達到約89億歐元，創歷史新高，其中38億歐元來自EUV系統訂單，包括高NA系統訂單
面膜對準器巨頭ASML第三季度銷售額為58億歐元:凈利潤為17億歐元，凈預訂為89億歐元，創歷史紀錄。
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