據東方晶源發布，最近幾天，東方晶源微電子技術有限公司發布了首個基于云的EDA計算光刻平臺——aero hpo全流程協同優化系統，成為國內EDA和集成良率解決方案的云部署者。
該系統遵循東方晶源自主研發的全芯片反向光刻掩膜優化技術，這是全球首例工程應用同時，依托公共云平臺，系統可以為客戶提供以下技術:工藝建模，基于ILT的掩模優化，設計規則和掩模規則檢查，光源掩模聯合優化，嚴格物理光刻模擬，DPT版圖拆分和光刻性能檢查
AeroHPO是對現有基于東方晶源私有計算集群的計算光刻解決方案的補充該系統在易用性和靈活的收費方式方面具有明顯的優勢可以為高校和科研院所提供便捷的EDA和計算光刻的教學和科研平臺，也可以為中小型芯片設計制造企業提供更加經濟靈活的解決方案
東方晶元的AeroHPO協同優化系統不僅解決了掩膜優化設計的問題，還具備上游EDA工具和下游缺陷分析及良率控制系統的可擴展性和兼容性，提供了從芯片設計到制造的DTCO集成平臺。
截至目前，該系統已在北京超級云，華為云，騰訊云等合作伙伴上測試。
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